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labtch莱伯泰科膜去溶雾化系统Aridus II

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品牌:Labtech 莱伯泰科
生产厂家:labtch莱伯泰科
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  • 提高ICP-MS的灵敏度4~10倍以上
  • 专利的PTFE膜去溶技术,减少了溶剂对ICP-MS的干扰,显著降低氧化物和氢化物水平
  • ?榛哪とト苌杓,拆装和清洗方便
  • 带盖保护的PFA雾化室,避免静电的干扰
  • 大大改善信号的稳定性,即使是如甲醇的有机溶剂
  • 配备可选的Aspire PFA微量雾化器,样品提升量:50, 100, and 200 µL/min三种可选
  • 可与ASX-112FR微量自动进样器相配
  • 减小了ICP-MS的干扰

Aridus II膜去溶雾化系统采用的低流量、Aspire微量雾化器,只需1mL的样品就能分析所有的元素。同时Aridus II进样系统全部采用PFA惰性材料,可应用于含HF酸的样品。独特的废液反抽技术进一步提高了稳定性。

 
Aridus II的工作原理:

样品经雾化器雾化成气溶胶后进入120℃的雾化室,样品气溶胶保持在蒸汽状态。从雾化室出来的样品气溶胶进入加热的“隔膜去溶”装置,利用“膜渗透”技术,分离样品气溶胶中的溶剂,利用一股反向的氩“穿透气”带走从膜渗透出来的溶剂蒸汽。从而使进入ICP的样品气几乎不存在溶剂部分,大大提高了分析的灵敏度、减少溶剂所带来的氧化物、氢化物干扰和溶剂对ICP的影响。

Aridus膜去溶能有效去除样品溶剂蒸汽,显著地减少诸如来自水中的氯化物、氢化物的干扰。(下图为)标准气动雾化器与Aridus系统的CeO/Ce比率的比较图,该CeO/Ce比率从3%减少为0.05%。
显著减小ICP-MS的干扰:
Aridus II膜去溶雾化系统能有效去除样品溶剂蒸汽,显著地减少诸如来自水中的氧化物、氢化物的干扰,右图比较了标准气动雾化器与Aridus系统的CeO/Ce 比率,该CeO/Ce比率从3% 减少为0.03%。 其他水基的干扰ArH +(39)、CO2+(44)、ArO+(56)有明显的减少,从而使Li、Na、Mg、K、Ca、Fe的检出限得到明显改善。
配备Aridus II的ICP-MS检出限:(在非冷焰的条件下,ELAN6000型ICP-MS)

Element

m/z

Detection Limit (ng/L)

Element

m/z

Detection Limit (ng/L)

Li

7

0.4

K

39

8

Na

23

15

Ca

44

300

Mg

24

6

Fe

56

10

 

卓越的信号稳定性:

Aridus II的7小时信号稳定性:RSD<1%(在100%的甲醇溶液中加1mg/L的标准)

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